MKY-ETD-2000 離子濺射儀

       ETD-2000 型離子濺射儀外觀沉穩(wěn)大氣，采用真空自動控制和真空保護電路，使操作和應用更加安全可靠。為擴大應用領域，可同時手動調整濺射儀的電離電流或手動調整其真空微調針閥，改變電離室的壓強，獲得優(yōu)良的噴鍍效果。真空橡膠壓邊密封結構，保證長期使用不會使鐘罩邊緣出現(xiàn)毛邊而影響真空室中的真空度，陶瓷密封高壓插頭經(jīng)久耐用。

      工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得優(yōu)良鍍膜效果。

      ETD-2000型是一款常用的離子濺射儀，是一切濺射儀的基礎。是以金屬靶材和樣品臺分別作為陰陽兩極，在真空狀態(tài)下產(chǎn)生輝光放電，使金原子與殘存的氣體不斷碰撞而沉積成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。

     具有成膜均勻，操作簡單，所需時間短，過程可控等優(yōu)點。

     配有高位定性真空泵

參數(shù)：

主機規(guī)格：305mm×365mm×325mm（W×D×H）

靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）

靶材：Au（標配），也可根據(jù)實際情況配備銀靶、鉑靶等

樣品室：硼硅酸鹽玻璃160mm×120mm（D×H）

靶材尺寸：Ф50mm    

真空指示表：最高真空度：≤ 4X10-2   mbar

離子電流表：最大電流：50mA

定時器：最長時間：3600s

微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

可通入氣體： 多種

最高電壓：  -1600  DCV

輸入電壓：220V(可做110V),50HZ

機械泵：標準配置2L/S（國產(chǎn)VRD-8）

特點：

1、簡單、經(jīng)濟、可靠。

2、可調節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

3、真空保護可避免真空過低造成設備短路。

4、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。

5、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。

6、數(shù)字計時器定時自由方便。

7、計時器可隨時停止，觀察樣品涂層，并可繼續(xù)工作。

8、可調節(jié)樣品臺，適用于多種樣品。

需要鍍膜的樣品

1、電子束敏感的樣品:

主要包括生物樣品，塑料樣品等。S EM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料，那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結構。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用，防止此類損傷；

2、非導電的樣品:

由于樣品不導電，其表  面帶有“電子陷阱"，  這種表面上的電子積累  被稱為“充電"。為了  消除荷電效應，可在樣  品表面鍍一層金屬導電  層，鍍層作為一個導電  通道，將充電電子從材  料表面轉移走，消除荷  電效應。在掃描電鏡成  像時，濺射材料增加信  噪比，從而獲得更好的成像質量。

3、新材料:非導電材料和半導體材料

MKY-ETD-2000 離子濺射儀